Alışveriş sepetiniz boş!
Plazma RF Güç Kaynağı + Tüp Fırın + MFC + Vakum Pompası
PECVD, çok çeşitli filmlerin biriktirilmesi için iyi kurulmuş bir tekniktir. Birçok cihaz tipi, yüksek kaliteli pasivasyon veya yüksek yoğunluklu maskeler oluşturmak için PECVD gerektirir.
Özellikler
Opsiyonlar
Farklı özelliklerdeki isteğe bağlı farklı fonksiyonlardaki fırınlar, ayrıca müşteri tasarım fırınını AR-GE çalışmalarını kabul ediyoruz, lütfen özel gereksinimlerinizi bize e-posta yada telefon ile iletişime geçebilirsiniz.
Etiketler: PECVD furnace, PECVD, furnace, Plasma-enhanced chemical vapor deposition, cvd, Plasma-enhanced chemical vapor deposition system, PECVD system, Plazma ile güçlendirilmiş kimyasal buhar biriktirme