• PECVD FURNACE 1

Plazma RF Güç Kaynağı + Tüp Fırın + MFC + Vakum Pompası

PECVD, çok çeşitli filmlerin biriktirilmesi için iyi kurulmuş bir tekniktir. Birçok cihaz tipi, yüksek kaliteli pasivasyon veya yüksek yoğunluklu maskeler oluşturmak için PECVD gerektirir.

Özellikler

  • Maksimum Sıcaklık           : 1200 °C
  • Devamlı Çalışma Sıcaklığı : 1100 °C
  • Tüp Çapı                           : 80 mm
  • Isıtma Bölgesi                  : 300 mm
  • Programlanabilir LCD Dokunmatik Ekran
  • 4 L/s Vakum Pompası
  • 3 MFC
  • Flanş Dahil


Opsiyonlar

  • Tüp çapı 30-200 mm arasında opsiyonel olarak değiştirilebilir.
  • Isıtma bölgesi 200-440 mm arasında seçilebilir.
  • Fırın üç bölgeye kadar ısıtma opsiyonuna sahip olabilir.
  • Fırın split tip (üstten açılır kapaklı) yapıya sahip bir opsiyonla tercih edilebilir.
  • Mekanik pompa gücü değiştirilebilir.
  • Turbo pompa opsiyonel olarak eklenebilir.
  • Dijital vakum gauge opsiyonel olarak eklenebilir.
  • MFC gazlarının kanal sayısı 2-6 arasında opsiyonel olarak eklenebilir.
  • Flanş tasarımı uygulamaya özgü değiştirilebilir.


Farklı özelliklerdeki isteğe bağlı farklı fonksiyonlardaki fırınlar, ayrıca müşteri tasarım fırınını AR-GE çalışmalarını kabul ediyoruz, lütfen özel gereksinimlerinizi bize e-posta yada telefon ile iletişime geçebilirsiniz.


PECVD FURNACE 1

  • Marka: Optosense
  • Ürün Kodu: product 119
  • Stok Durumu: Stokta var
  • $28.700,00

  • Vergiler Hariç: $28.700,00

Etiketler: PECVD furnace, PECVD, furnace, Plasma-enhanced chemical vapor deposition, cvd, Plasma-enhanced chemical vapor deposition system, PECVD system, Plazma ile güçlendirilmiş kimyasal buhar biriktirme