PECVD Furnace

PECVD Furnace

PECVD (PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) sistemleri ince film çalışmaları başta olmak üzere Li-ion batarya çalışmaları, grafen bazlı çalışmalar ve Ar-Ge çalışmalarında başvurulan kaplama sistemlerinden biridir.

PECVD sistemleri sahip olduğu plazma jeneratörü sayesinde ısıl işlem öncesinde ya da ısıl işlem süresince malzemeler plazmaya tabii tutularak yüzey aktivasyonu ya da yüzey temizliği yapma imkanı sağlar.

Optosense marka PECVD sistemleri, bir tüp fırın, 2-4 kanallı MFC ünitesi, plazma jeneratörü ve vakum pompasından oluşan komple bir sistemdir.  Sistemin her komponenti birbirine sonradan ilave edilebilir şekilde tasarlandığından, tüp fırın ile başlayan ısıl işlem süreçleriniz sonradan ilave edilebilecek MFC ünitesi ile CVD sistemine, daha sonra ilave edilecek plazma sistemi ile PECVD sistemine dönüştürülebilir.


PECVD FURNACE 1

PECVD FURNACE 1

  • RF Plazma
  • Max. Sıcaklık 1200C
  • Tüp çapı 80 mm
  • Sıcak Bölge 300 mm

$28.700,00 Vergiler Hariç: $28.700,00

PECVD FURNACE 2

PECVD FURNACE 2

  • RF Plazma
  • Max. Sıcaklık 1400C
  • Tüp çapı 80 mm
  • Sıcak Bölge 300 mm

$30.400,00 Vergiler Hariç: $30.400,00

PECVD FURNACE 3

PECVD FURNACE 3

  • RF Plazma
  • Max. Sıcaklık 1600C
  • Tüp çapı 80 mm
  • Sıcak Bölge 300 mm

$33.400,00 Vergiler Hariç: $33.400,00

Gösterilen: 1 ile 3 arası, toplam: 3 (1 Sayfa)